Por Canuto  

China avanza en la fabricación de chips con una fuente EUV de laboratorio y la presentación de Qwen3.8 y SAIL, desafiando el control de ASML y Nvidia.
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  • China logra una eficiencia del 3,42% en una fuente de luz EUV de laboratorio
  • El avance busca independizarse de las restricciones de exportación de Occidente
  • Alibaba presenta Qwen3.8 con 2,4 billones de parámetros y abre el código de SAIL

Un equipo de la Academia de Ciencias de China anunció un avance significativo en la tecnología de litografía ultravioleta extrema (EUV), un paso clave para fabricar chips avanzados sin depender de ASML. Según informó el sitio de noticias news.bitcoin.com, los científicos del Instituto de Óptica y Mecánica Fina de Shanghai alcanzaron una eficiencia de conversión del 3,42% en una plataforma de fuente de luz EUV. Este resultado, publicado en marzo de 2025, se acerca a los estándares comerciales de ASML, aunque la potencia de salida sigue siendo de solo 100 a 150 vatios, frente a los 600 vatios que logra el líder neerlandés.

El trabajo, liderado por el ex científico de ASML Lin Nan, representa un desafío directo al monopolio tecnológico que ha mantenido a China fuera de la producción de chips de menos de 7 nanómetros. La noticia coincide con la presentación de Alibaba de su modelo Qwen3.8-Max-Preview y el anuncio de T-Head de abrir el código de su pila SAIL, fortaleciendo el ecosistema de inteligencia artificial chino frente a las restricciones de Occidente.

El cuello de botella de EUV

La litografía ultravioleta extrema es el proceso más costoso y complejo en la fabricación de semiconductores avanzados. Sin herramientas EUV, los fabricantes no pueden producir chips con nodos de menos de 7 nanómetros, una tecnología dominada por ASML, que tiene prohibido vender sus sistemas más avanzados a China desde 2019.

El grupo de Lin Nan utilizó un láser de estado sólido de 1 micrón en lugar de los láseres de CO2 empleados en los sistemas comerciales. El artículo de marzo de 2025 reportó una eficiencia máxima del 3,42%, superando los resultados académicos de ETH Zurich (1,8%) y un centro neerlandés (3,2%). Aunque la cifra aún es inferior al 5,5% de las fuentes comerciales, la dirección es prometedora para un país bloqueado de comprar tecnología de punta.

La potencia de salida sigue siendo el principal obstáculo para pasar de prototipos a líneas de producción. El análisis mencionado en la fuente indica que la luz EUV generada por los métodos chinos alcanza solo 100 a 150 vatios, mientras que ASML entrega 600 vatios en sus máquinas actuales. Esta brecha es crucial porque una mayor potencia se traduce en un mayor rendimiento de obleas, es decir, más chips por hora y menores costos.

El avance chino no es solo un logro de laboratorio. Reuters informó en diciembre de 2025 que investigadores en Shenzhen habían ensamblado un prototipo operativo de máquina EUV mediante ingeniería inversa de la tecnología de ASML, utilizando piezas rescatadas de herramientas más antiguas. Aunque esa máquina no producía chips funcionales, la ambición es clara: China quiere fabricar chips avanzados en máquinas completamente hechas en su territorio.

Restricciones y respuesta de China

Los controles de exportación de Estados Unidos han mantenido a China alejada de los sistemas EUV más avanzados desde 2019. Esta tecnología es un requisito clave para los nodos de menos de 7 nanómetros, y el mercado de máquinas de litografía en China está controlado en un 99% por ASML y las japonesas Nikon y Canon, según el informe citado.

La prohibición ha forzado a Pekín a acelerar su investigación nacional. El equipo de Lin Nan, ex propietario de competencia en ASML para fuentes de luz en metrología, aporta experiencia directa del principal fabricante. En paralelo, el gobierno chino ha establecido un objetivo ambicioso: lograr la producción nacional de EUV para 2028, con un enfoque en la autosuficiencia completa.

El prototipo de Shenzhen, ensamblado a principios de 2025, demuestra que la ingeniería inversa es una vía real para China. Aunque el equipo no produce aún chips funcionales, el esfuerzo evidencia una estrategia sistemática para superar las barreras tecnológicas impuestas por Occidente.

La carrera por EUV se ha convertido en un símbolo de la disputa tecnológica entre Estados Unidos y China. Mientras Washington refuerza sus sanciones, Pekín invierte miles de millones en investigación para cerrar la brecha. El objetivo no es solo producir chips, sino dominar toda la cadena de suministro, desde la fabricación de máquinas hasta el diseño de semiconductores.

Alibaba: el complemento en inteligencia artificial

En la Conferencia Mundial de IA en Shanghái, Alibaba presentó Qwen3.8-Max-Preview el 19 de julio de 2026. Este modelo multimodal cuenta con 2,4 billones de parámetros en total, utilizando un diseño de Mezcla de Expertos dispersa, según el artículo del 20 de julio de 2026. La compañía aún no ha revelado resultados de referencia ni términos de licencia, pero la magnitud del modelo lo coloca en la élite de la IA mundial.

Un día antes, la unidad de chips de Alibaba, T-Head, anunció que abrirá el código de SAIL, la pila de software detrás de sus chips Zhenwu. Esta movida busca ofrecer una alternativa al ecosistema CUDA de Nvidia, que domina el mercado de chips para IA. Con SAIL de código abierto, los desarrolladores pueden optimizar sus aplicaciones sin depender de la tecnología propietaria de Nvidia.

T-Head también reveló que su chip Zhenwu M890, presentado el 20 de mayo de 2026, entrega 0,6 PFLOPs FP16 con 144 GB de HBM3. La compañía ya había enviado 560.000 unidades a más de 400 clientes corporativos para abril de 2026, lo que muestra una adopción comercial temprana.

La estrategia de Alibaba combina modelos de lenguaje masivos con hardware de propósito específico. Qwen3.8 y SAIL buscan crear un ecosistema independiente de las restricciones estadounidenses, que también afectan la exportación de chips avanzados de Nvidia a China. Al abrir el código de SAIL, T-Head espera atraer a desarrolladores y empresas que buscan alternativas viables.

Este impulso paralelo es significativo porque la inteligencia artificial requiere tanto de modelos potentes como de infraestructura eficiente. China, al fortalecer su propio stack de software y hardware, reduce su dependencia de empresas extranjeras y consolida su posición en la carrera global por la IA.

Implicaciones globales y futuro

El avance en EUV y los desarrollos de Alibaba tienen implicaciones que trascienden las fronteras chinas. Si China logra fabricar sus propias máquinas EUV, el equilibrio de poder en la industria de semiconductores cambiaría drásticamente. Actualmente, ASML controla el mercado de litografía avanzada, y su tecnología es esencial para producir los procesadores más rápidos del mundo.

El objetivo de 2028 puede parecer ambicioso, pero los progresos recientes sugieren que China está avanzando más rápido de lo esperado. La eficiencia del 3,42% en un prototipo de laboratorio es un hito importante, aunque la escala a nivel industrial tomará años. La brecha de potencia de 100 a 150 vatios frente a 600 vatios seguirá siendo un obstáculo hasta que se optimicen los láseres y los sistemas de control.

En el frente de la IA, la presentación de Qwen3.8 y el lanzamiento de SAIL muestran una estrategia coordinada para construir una infraestructura independiente. La apertura del código podría acelerar la adopción y crear una comunidad de desarrolladores, similar a lo que logró CUDA en los últimos años, pero con un enfoque en soberanía tecnológica.

Para los lectores que siguen de cerca estos temas, la pregunta no es si China logrará avances, sino cuándo y a qué costo. La industria de semiconductores es una de las más complejas y costosas del mundo, con barreras enormes en términos de investigación, inversión y conocimientos. Sin embargo, la historia de EUV muestra que los bloqueos tecnológicos pueden ser superados con determinación y recursos.

El impacto en los mercados y las empresas será significativo si China logra su meta. ASML podría enfrentar una competencia inesperada, mientras que Nvidia tendría que lidiar con un competidor más fuerte en el ámbito de la IA. La incertidumbre es alta, pero los avances chinos en 2025 y 2026 demuestran que Occidente ya no puede dar por sentado su liderazgo.

Imagen original de DiarioBitcoin, creada con inteligencia artificial, de uso libre, licenciada bajo Dominio Público.
Este artículo fue escrito por un redactor de contenido de IA y revisado por un editor humano para garantizar calidad y precisión.


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