Por Canuto  

ASML informó ingresos trimestrales récord de USD $13.060 millones y anticipó que sus planes de producción no cubrirían toda la demanda de 2027 y 2028. Algunos clientes ya expresan interés en reservar equipos de litografía con entrega hasta 2030, en medio del impulso de las inversiones en infraestructura para inteligencia artificial.
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  • La empresa reportó un alza interanual de 55% en sus ingresos trimestrales y proyectó ventas anuales de hasta EUR €45.000 millones.
  • ASML prevé que la demanda supere la oferta de sus sistemas al menos hasta 2028, y estudia ampliar más su capacidad.
  • Los pedidos de equipos hasta 2030 y el avance de High-NA EUV reflejan las necesidades de expansión de los fabricantes de chips.

 

Resultados récord impulsados por la demanda

ASML informó ingresos de USD $13.060 millones (EUR €11.660 millones) en el tercer trimestre de 2026, un aumento interanual de 55% y de 25% frente al trimestre anterior. La compañía neerlandesa también registró un margen bruto de 57,5%, por encima del 51,6% de un año antes, mientras que su ingreso operativo llegó a USD $5.790 millones (EUR €5.170 millones). Los resultados se produjeron en un contexto de demanda de maquinaria para fabricar semiconductores y de crecimiento de las inversiones en infraestructura de inteligencia artificial.

La utilidad neta alcanzó USD $5.560 millones (EUR €4.960 millones), aunque esa cifra incluye unos USD $570 millones (EUR €510 millones) derivados de la reevaluación de la inversión de ASML en Mistral AI. Durante el trimestre, la empresa vendió 121 sistemas de litografía: 113 máquinas nuevas y ocho reacondicionadas. En el segundo trimestre había vendido 91 sistemas, por lo que el nuevo resultado también muestra un aumento considerable en las entregas.

De las ventas de equipos, 17 sistemas EUV aportaron USD $4.590 millones (EUR €4.100 millones), mientras que 85 herramientas DUV generaron USD $4.820 millones (EUR €4.300 millones); estas últimas incluyeron 45 escáneres ArFi. ASML también vendió 19 herramientas de litografía i-line y había reconocido en el trimestre anterior los ingresos de un sistema High-NA EUV. En la distribución por clientes, los fabricantes de chips lógicos representaron 54% de los ingresos por equipos y los productores de memoria, el 46%.

La distribución geográfica de esas ventas se concentró en Asia: Taiwán aportó 32% y Corea del Sur, 31%, para sumar 63%. China representó 23% del total, Estados Unidos 13% y el resto de Asia apenas 1%. La compañía también reportó USD $3.680 millones (EUR €3.290 millones) en su negocio de Gestión de Base Instalada, unos USD $450 millones (EUR €400 millones) por encima de las previsiones, principalmente por la demanda de mejoras de productividad.

Pedidos anticipados y límites de capacidad

El dato central para las perspectivas de ASML es que sus clientes quieren reservar equipos con años de anticipación, ante la expectativa de que la demanda de sus propios productos supere la oferta al menos hasta 2028. Christophe Fouquet, director ejecutivo de la compañía, atribuyó esa visibilidad a los compromisos de largo plazo que los fabricantes de chips están consiguiendo con sus clientes. Según explicó en una llamada con analistas e inversionistas, algunos productores ya aceleran la construcción de fábricas y preparan expansiones adicionales.

ASML recibe pedidos con entrega prevista para 2028 y observa un interés creciente por equipos para 2029 e incluso 2030. Fouquet indicó que el impulso de los pedidos continúa mientras los clientes se enfocan en sus necesidades posteriores a 2027. La posibilidad de asegurar herramientas con tanta anticipación da cuenta de la planificación de capacidad de los fabricantes, pero también plantea un reto para ASML: ajustar su producción a una demanda que se extiende varios años hacia adelante.

La compañía prevé fabricar alrededor de 65 sistemas Low-NA EUV en 2026, frente a los 44 escáneres enviados en 2025. Para los sistemas DUV de inmersión, espera mantener aproximadamente el nivel de producción del año anterior, aunque antes anticipaba una disminución de los envíos. ASML había anunciado que buscaría aumentar 30% la capacidad de producción de Low-NA EUV y DUV de inmersión en 2027, y evaluar otro incremento potencial de 30% en 2028.

Tomando como base el objetivo de 65 sistemas Low-NA EUV para 2026, esos incrementos equivaldrían aproximadamente a 85 unidades en 2027 y 110 en 2028, si ambos se concretan. Sin embargo, Roger Dassen, director financiero de ASML, advirtió que los niveles previstos para esos dos años no cubrirían por completo las necesidades de sus clientes. La empresa explora formas de ampliar la capacidad de 2028 más allá del aumento anunciado, aunque todavía no presentó objetivos de producción revisados.

Más productividad y adopción de High-NA EUV

ASML también busca aumentar la capacidad de fabricación de sus clientes mediante sistemas de litografía más productivos. Su equipo Twinscan NXE:3800F, cuya introducción está prevista para principios de 2027, procesará hasta 260 obleas por hora, frente a las 230 del NXE:3800E actual. Ese avance, cercano a 13%, permitiría sumar 21.600 exposiciones EUV mensuales por máquina sin requerir un aumento equivalente del espacio de sala limpia.

La compañía estima que tres de esos equipos en una fábrica podrían aportar 90 exposiciones EUV adicionales por hora, 2.160 al día o 64.800 al mes. También planea introducir un nuevo sistema DUV de inmersión para capas críticas, con capacidad de procesar 330 obleas por hora. El aumento efectivo de producción de una fábrica dependerá, no obstante, de cuántas exposiciones requiera cada oblea en un nodo determinado y de la capacidad de las demás herramientas de fabricación.

Otra vía para incrementar la producción consiste en actualizar sistemas EUV y DUV que ya están instalados. Los paquetes de mejora de productividad pueden elevar el rendimiento de obleas sin que los fabricantes compren escáneres adicionales, lo que ofrece una alternativa más rápida que adquirir equipos nuevos o construir plantas. ASML atribuyó parte de la fortaleza de su negocio de Gestión de Base Instalada a la demanda de estas mejoras, que también contribuyó a sus resultados de rentabilidad.

La adopción de High-NA EUV avanza entre los principales fabricantes, aunque cada empresa prevé incorporarla en diferentes etapas. Intel ya expuso más de un millón de obleas con estos sistemas y planea comenzar a utilizarlos con su proceso 14A en 2028. Samsung apunta a introducir High-NA EUV en producción de alto volumen de DRAM en 2028 y, más adelante, en lógica; TSMC prevé recurrir a estos escáneres entre 2030 y 2031.

ASML señaló que la disponibilidad de su flota instalada High-NA se aproxima a 90%, una señal de que las herramientas avanzan hacia una madurez apta para producción de alto volumen. La eventual entrada de Samsung en 2028 podría generar demanda adicional de sistemas por parte de los fabricantes de memoria, que compiten con otros productores del sector. La compañía, sin embargo, no divulgó objetivos específicos de envío para las máquinas High-NA.

Precios, previsiones y exposición a China

ASML espera ingresos de entre EUR €14.200 millones y EUR €15.200 millones en el cuarto trimestre, con un margen bruto cercano a 57%. Para el año completo proyecta ventas de entre EUR €44.000 millones y EUR €45.000 millones, alrededor de 36% más que el año anterior. Dentro de esa perspectiva, la empresa anticipa que los ingresos de EUV aumenten más de 45% interanual y que las ventas de equipos relacionados con memoria crezcan cerca de 75%, una señal de la inversión prevista por productores de DRAM.

La empresa también confirmó que concluyó las conversaciones con sus principales clientes sobre su estrategia de precios basados en valor, un enfoque que había generado dudas sobre posibles aumentos generalizados. Dassen dijo que el efecto financiero no será visible en 2026, comenzará a notarse parcialmente durante 2027 y alcanzará su impacto completo en 2028 y los años posteriores. La explicación indica que los nuevos precios se aplicarán principalmente a herramientas nuevas, no de manera retroactiva a toda la cartera de pedidos existente.

China continúa siendo un mercado importante pese a las restricciones de exportación que impiden a sus fabricantes adquirir escáneres EUV y algunos sistemas DUV avanzados. ASML espera que el país represente cerca de 20% de sus ingresos totales en 2026, lo que equivaldría a ventas anuales de EUR €8.800 millones a EUR €9.000 millones según las previsiones citadas. Los productores chinos siguen invirtiendo en capacidad para nodos maduros y en equipos cuya venta continúa permitida bajo las regulaciones vigentes.

La empresa no anticipó qué consecuencias tendría una eventual aprobación de la Ley MATCH por legisladores estadounidenses. Su dirección destacó, en cambio, las oportunidades asociadas con fabricantes de lógica y memoria que aceleran inversiones en sistemas DUV sofisticados, Low-NA EUV y High-NA EUV. En conjunto, los pedidos hasta 2030 y la expectativa de que la oferta no alcance la demanda de 2027 y 2028 explican por qué ASML evalúa ampliar aún más su capacidad, sin haber detallado todavía cuánto crecería la producción.

La información sobre los resultados y las perspectivas de capacidad fue publicada por Tom’s Hardware. Las cifras y las declaraciones citadas corresponden a los datos atribuidos a ASML en ese reporte.

Imagen original de DiarioBitcoin, creada con inteligencia artificial, de uso libre, licenciada bajo Dominio Público.

Este artículo fue escrito por un redactor de contenido de IA y revisado por un editor humano para garantizar calidad y precisión.


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