Huawei asumió un papel de coordinación en el esfuerzo chino por desarrollar máquinas de litografía DUV, pero el prototipo más avanzado todavía depende de lentes fabricadas por Zeiss, proveedor exclusivo de ASML. El desafío también enfrenta limitaciones en las fuentes de luz, mientras SMIC prueba herramientas nacionales que buscan producir chips avanzados mediante multipatronizado.
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- Huawei coordina a proveedores y fabricantes chinos en el desarrollo de equipos de litografía DUV.
- Yuliangsheng prueba una máquina de 28 nanómetros que utiliza lentes de proyección de Zeiss, según personas citadas por Financial Times.
- China espera fabricar 12 máquinas DUV este año, aunque sus herramientas todavía están lejos de la productividad de ASML.
China busca construir una cadena nacional para fabricar máquinas de litografía capaces de reducir su dependencia de proveedores extranjeros, y Huawei habría asumido el papel de coordinador central de ese esfuerzo. La empresa está invirtiendo en compañías que suministran equipos y también ayuda a introducir sus máquinas en fábricas chinas, incluida Semiconductor Manufacturing International Corporation, conocida como SMIC. Sin embargo, el prototipo más relevante de esta iniciativa todavía utiliza lentes de proyección fabricadas por la alemana Zeiss, un detalle que expone la distancia entre desarrollar una herramienta y construir una cadena de suministro completa.
La información fue reportada por Financial Times a partir de testimonios de personas familiarizadas con el asunto, aunque el reporte no ha sido verificado de forma independiente. La litografía constituye una etapa decisiva de la fabricación de chips porque imprime los circuitos sobre obleas de silicio, y es precisamente el segmento en el que China aún no ha logrado reemplazar por completo a los proveedores extranjeros. El avance, por tanto, no depende únicamente de un prototipo funcional, sino de la coordinación entre miles de proveedores, fabricantes de chips y clientes industriales.
Huawei toma el control de un esfuerzo disperso
Lin Qingyuan, analista de semiconductores en Bernstein, describió el papel de Huawei como una función de gestión de proyectos dentro del impulso chino hacia la litografía de ultravioleta profundo, o DUV. Según su explicación, China había acumulado durante años ambiciones tecnológicas y proveedores dispersos, pero carecía de una empresa con suficiente capital e influencia para convencer a una fábrica de adoptar una herramienta nacional todavía no probada. Huawei intenta llenar precisamente ese vacío, detalla TNW.
La importancia de esa coordinación radica en que una máquina de litografía no opera como un producto aislado. Una herramienta DUV reúne decenas de miles de piezas agrupadas en aproximadamente una docena de sistemas principales, de modo que una mejora en un componente no garantiza que toda la máquina alcance estabilidad, precisión y rendimiento comercial. La empresa que consiga alinear esos suministros también puede facilitar que las fábricas acepten el costo inicial de trabajar con tecnología menos madura.
En el centro del desarrollo aparece Yuliangsheng, fabricante de equipos con sede en Shanghái que codesarrolló la primera máquina china avanzada de ultravioleta profundo. SMIC está probando esa herramienta y Huawei también la utiliza en sus propias líneas de producción, según el reporte. La compañía surgió de SiCarrier, firma a la que distintos reportes previos han vinculado técnica y comercialmente con Huawei, aunque Huawei ha negado cualquier afiliación con ella.
La estructura corporativa del proyecto sigue siendo difícil de establecer con certeza. Un grupo estatal de Shanghái llamado Aishengna estaría absorbiendo equipos de varias startups chinas de litografía, entre ellas Yuliangsheng, mientras que otro relato la presenta como una derivación de SiCarrier con su propia máquina. Esas versiones no describen exactamente la misma relación empresarial y ninguna ha quedado confirmada de manera concluyente en el registro disponible.
Las lentes de Zeiss revelan la dependencia pendiente
Dos personas familiarizadas con el asunto dijeron que la máquina de Yuliangsheng utiliza lentes de proyección fabricadas por Zeiss. La compañía alemana ha señalado que vende sus ópticas de litografía únicamente a ASML, el fabricante neerlandés que domina el mercado mundial de equipos para producir chips avanzados. Personas de la industria citadas en el reporte indicaron que esas lentes podrían haber llegado a China mediante el mercado secundario, sin que la información publicada alegue una operación ilegal.
El dato muestra una contradicción tecnológica de gran relevancia: una máquina diseñada para reducir la exposición de China a los controles de exportación todavía depende de un componente cuyo fabricante no comercializa directamente en ese país. La precisión de las ópticas determina la capacidad de imprimir patrones diminutos sobre el silicio, por lo que sustituirlas exige desarrollar materiales, procesos de fabricación y controles de calidad igualmente sofisticados. El ensamblaje nacional no equivale todavía a una independencia completa.
Huawei ha comenzado a financiar una posible respuesta a esa vulnerabilidad mediante su brazo de capital de riesgo Habo y otro fondo respaldado por la compañía. Ambos fondos invirtieron en Fujian Zhiqi Photonics, fabricante de ópticas de ultra precisión que surgió en 2022 del grupo cotizado en Shenzhen Castech. El fondo adquirió una participación del 37% por aproximadamente USD $15 millones en 2023, lo que convirtió a Zhiqi en una pieza potencialmente estratégica para reemplazar los componentes importados.
Castech tiene sus orígenes en un instituto de la Academia China de Ciencias y produce cristales ópticos para sistemas láser. La compañía ha revelado que tanto ASML como Huawei figuran entre sus clientes, una relación que añade complejidad a la transición que Beijing intenta promover. El objetivo sería aprovechar capacidades construidas para atender a un proveedor de ASML y orientarlas hacia una alternativa financiada por Huawei, aunque todavía no existe confirmación de que Zhiqi haya entregado una lente capaz de sustituir la de Zeiss.
La fuente de luz es el segundo gran obstáculo
Las ópticas no son el único componente que limita la autonomía china. Las máquinas DUV también necesitan una fuente de luz extremadamente estable y potente, un área dominada por la japonesa Gigaphoton y por Cymer, compañía propiedad de ASML. Lin explicó que construir una fuente de luz básica puede resultar relativamente sencillo, pero mantener su estabilidad a niveles elevados de potencia representa una dificultad mucho mayor cuando la herramienta debe operar durante largos ciclos industriales.
Beijing RSLaser Opto-Electronics representa uno de los esfuerzos nacionales para cerrar esa brecha. Habo también ha invertido en esa compañía, que ya suministró fuentes de luz para máquinas más antiguas fabricadas por Shanghai Micro Electronics Equipment, conocida como SMEE. Medios chinos informaron que RSLaser trabaja ahora con SMEE en una fuente destinada a una herramienta de 28 nanómetros, un objetivo que vincula el desarrollo de componentes con una generación concreta de fabricación.
Yuliangsheng espera producir 12 máquinas DUV antes de que termine este año, mientras SMIC ya prueba una de sus herramientas de 28 nanómetros. La fabricante china de chips combina esa tecnología con multipatronizado, una técnica que hace pasar la oblea por la máquina en repetidas ocasiones para alcanzar patrones equivalentes a los utilizados en chips de 7 nanómetros. El procedimiento puede ampliar las capacidades de una herramienta menos avanzada, aunque normalmente añade complejidad, tiempo y presión sobre la productividad.
Un análisis de UBS situó recientemente la litografía china aproximadamente en el nivel que ASML tenía en 2004. Lin estimó que las máquinas nacionales necesitarán varios años para acercarse a la productividad de la empresa neerlandesa, y las decisiones comerciales de las fábricas respaldan esa cautela. SMIC y otras plantas han comprado herramientas chinas para probarlas, pero todavía ejecutan su producción principal con equipos de ASML.
Una carrera tecnológica con un objetivo que se mueve
La dependencia de ASML mantiene una dimensión económica además de tecnológica. Se proyecta que las ventas de la compañía neerlandesa en China representen aproximadamente una quinta parte de sus ingresos durante este año, mientras se ha informado que CXMT y YMTC han almacenado suficientes máquinas de ASML para cubrir tres años de expansión. Esas reservas pueden amortiguar el efecto inmediato de las restricciones, pero también muestran el valor que las fábricas todavía atribuyen a la confiabilidad de los equipos extranjeros.
Al mismo tiempo, China no compite contra una versión inmóvil de ASML. La empresa neerlandesa trabajó esta semana con TSMC en una transición hacia fotomáscaras de 12 pulgadas, con el objetivo de permitir que sus máquinas High NA impriman chips de inteligencia artificial de mayor tamaño en una sola exposición. Mientras las herramientas chinas se concentran en DUV de 28 nanómetros, el líder del mercado intenta elevar el límite de lo que puede fabricarse en una exposición.
Esa diferencia no invalida los avances de Yuliangsheng, pero cambia la forma de medirlos. Una herramienta nacional puede ser útil para producir determinados componentes, reducir riesgos de suministro y crear experiencia industrial incluso si no alcanza de inmediato la precisión o el rendimiento de ASML. La pregunta central es si China logrará convertir prototipos instalados en fábricas en una red de proveedores capaces de sostener producción continua, no solamente demostraciones técnicas.
El argumento más incómodo para Washington es que las restricciones podrían acelerar el aprendizaje local en lugar de detenerlo. Lin advirtió que, si los controles empujan a las fábricas chinas a colaborar con proveedores nacionales de DUV, esas empresas podrían elevar sus capacidades tecnológicas más rápido de lo esperado. La presión elimina para ciertos compradores la alternativa extranjera que hacía demasiado costoso aceptar una herramienta menos eficiente, y puede transformar una desventaja de rendimiento en un incentivo para experimentar.
Qué indicadores permitirán medir el avance
El primer indicador será saber si Yuliangsheng entrega las 12 máquinas prometidas y qué fábricas las reciben. Las unidades instaladas permitirán observar si el proyecto puede superar la etapa de pruebas y ofrecer disponibilidad suficiente para operaciones industriales, una diferencia clave frente a un prototipo aislado. También será importante verificar si SMIC amplía el uso de la herramienta de 28 nanómetros o mantiene sus procesos avanzados principalmente con equipos de ASML.
El segundo indicador será Fujian Zhiqi Photonics. Si la empresa logra enviar una lente que reemplace el componente de Zeiss, China habrá dado un paso hacia una cadena de suministro nacional más completa; si no ocurre, la máquina seguirá dependiendo de una pieza extranjera crítica. El avance no exigirá solamente fabricar una óptica funcional, sino demostrar que puede producirse con la precisión, la uniformidad y la escala que necesita una fábrica de semiconductores.
También será necesario seguir la evolución de las fuentes de luz desarrolladas por RSLaser y SMEE. Una herramienta puede incorporar un diseño nacional y aun así sufrir interrupciones, menor rendimiento o ciclos de mantenimiento demasiado frecuentes para competir con equipos establecidos. La estabilidad de la fuente, junto con el rendimiento de las lentes, determinará si las máquinas chinas pueden pasar de la experimentación a la producción económica.
Finalmente, los ingresos de ASML en China ofrecerán una señal agregada, aunque no perfecta, sobre la sustitución tecnológica. Una caída equivalente a aproximadamente una quinta parte del negocio chino no demostraría por sí sola que la industria local haya alcanzado a ASML, porque también podrían influir las políticas de exportación y la acumulación de inventarios. Sin embargo, un descenso sostenido acompañado por mayor utilización de herramientas nacionales indicaría que el proyecto de Huawei está modificando la cadena de suministro, y no solo construyendo una alternativa sobre el papel.
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