Por Canuto  

Intel comenzó a usar una máquina High NA de ASML para fabricar capas específicas de sus chips Panther Lake, una decisión que busca optimizar el equipo y preparar la producción de circuitos cada vez más pequeños.

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  • Intel utiliza herramientas de litografía ultravioleta extrema High NA de ASML para producir partes de sus chips Panther Lake.
  • El equipo cuesta alrededor de USD $400 millones, aproximadamente el doble que una máquina EUV estándar.
  • La compañía recibió su primera herramienta High NA en 2024 y trabaja con ella en su centro de investigación de Hillsboro, Oregón.

 

Intel comenzó a utilizar una herramienta de litografía de próxima generación fabricada por ASML para ayudar a producir algunos de sus chips Panther Lake destinados a laptops. La decisión coloca a la compañía en una etapa temprana de adopción de una tecnología que podría resultar necesaria para fabricar circuitos con dimensiones cada vez menores.

La máquina emplea litografía ultravioleta extrema con alta apertura numérica, conocida como High NA EUV. Intel ya utiliza equipos EUV estándar para fabricar Panther Lake mediante su proceso de manufactura 18A, pero ahora incorporó la nueva herramienta en capas específicas del chip.

Intel prueba la próxima generación de litografía

ASML informó que Intel empezó a utilizar sus máquinas High NA EUV después de realizar experimentos que comenzaron en 2024. El fabricante neerlandés suministra las herramientas capaces de imprimir los patrones de circuito que forman los microchips modernos.

La litografía funciona mediante el uso de luz para dibujar estructuras complejas sobre los materiales que componen un chip. Estas estructuras determinan la disposición de los circuitos y permiten integrar una mayor cantidad de elementos en superficies cada vez más pequeñas.

La alta apertura numérica representa una evolución frente a los equipos EUV convencionales. Su objetivo consiste en ayudar a los fabricantes a definir patrones más pequeños, una capacidad vinculada con la reducción continua de las características físicas de los semiconductores.

La industria ha debatido cuándo tiene sentido económico comenzar a desplegar estas máquinas. Aunque la tecnología puede ofrecer ventajas técnicas importantes, su precio y la complejidad de incorporarla a una línea de producción elevan el riesgo de una adopción prematura.

Intel está utilizando la herramienta para capas determinadas de Panther Lake, en lugar de emplearla en todo el proceso de fabricación. Ese enfoque permite evaluar el rendimiento del equipo sin trasladar de inmediato toda la producción a una tecnología más costosa y exigente.

Una máquina de USD $400 millones

El equipo High NA cuesta alrededor de USD $400 millones, según la información difundida por ASML. La cifra equivale aproximadamente al doble del precio de una máquina EUV estándar, lo que convierte cada decisión de compra en un compromiso financiero considerable.

El costo no constituye el único desafío para los fabricantes de chips. La herramienta también exige cambios técnicos y operativos, además de un proceso de aprendizaje para integrarla con precisión en los sistemas de producción existentes.

Intel y ASML esperan recopilar datos mientras la máquina participa en la fabricación de determinadas capas. La información puede ayudar a identificar ajustes necesarios, mejorar el funcionamiento del equipo y optimizar los procesos asociados con la impresión de circuitos.

La experiencia también puede ofrecerle a Intel conocimientos prácticos sobre una tecnología que probablemente tendrá mayor importancia en el futuro. La compañía necesita entender cómo utilizarla antes de que la reducción de los circuitos convierta a High NA en una herramienta más habitual.

El debate económico refleja una tensión central de la industria de semiconductores. Los fabricantes deben invertir con anticipación para conservar sus capacidades tecnológicas, pero también deben evitar destinar grandes sumas a equipos que todavía resulten difíciles de operar o poco rentables.

La elección de Panther Lake como plataforma de aprendizaje permite vincular la experimentación con una familia concreta de procesadores para laptops. Intel puede así observar el comportamiento de la herramienta en un producto destinado a computadoras portátiles, mientras continúa utilizando EUV estándar en otras etapas.

El papel de Panther Lake y del proceso 18A

Intel fabrica los chips Panther Lake mediante su proceso de manufactura 18A. La empresa ya emplea máquinas EUV estándar de ASML dentro de ese proceso, por lo que la incorporación de High NA amplía la combinación de herramientas disponible para producir los procesadores.

Panther Lake representa el contexto específico en el que Intel está probando la nueva tecnología. La compañía no indicó que toda la fabricación del chip dependa de High NA, sino que señaló su uso en capas específicas para apoyar el aprendizaje y la optimización.

La decisión también muestra cómo las compañías de semiconductores introducen nuevas máquinas de forma gradual. En vez de reemplazar inmediatamente las herramientas existentes, Intel combina el equipo avanzado con sistemas EUV estándar que ya forman parte de su proceso productivo.

Intel recibió su primera herramienta High NA en 2024. La máquina llegó a su sitio de investigación y desarrollo en Hillsboro, Oregón, donde la compañía desarrolla nuevas técnicas y tecnologías de fabricación.

Los centros de investigación cumplen una función importante en este tipo de transición. Allí los ingenieros pueden estudiar el comportamiento del equipo, ajustar procedimientos y reunir datos antes de ampliar su uso en operaciones de producción más extensas.

Intel no hizo comentarios sobre el anuncio. La información fue comunicada por ASML y reportada por Reuters, que identificó a Max A. Cherney como autor de la cobertura desde San Francisco.

Una carrera por reducir los circuitos

La adopción de High NA se relaciona con la presión constante para fabricar chips más potentes y compactos. A medida que las empresas reducen el tamaño de sus circuitos, las herramientas de litografía deben ofrecer mayor precisión para reproducir los patrones diseñados.

El proceso no consiste simplemente en comprar una máquina más avanzada. Cada herramienta debe integrarse con materiales, procedimientos y controles de producción que permitan mantener la calidad de las obleas y la consistencia de los circuitos.

Por ese motivo, la recopilación de datos tiene un valor estratégico para Intel y ASML. La experiencia obtenida durante la fabricación de capas específicas puede revelar cómo adaptar el equipo a las necesidades de un proceso como 18A.

La industria todavía evalúa el momento adecuado para extender el uso de High NA. El precio de USD $400 millones y la dificultad técnica obligan a comparar sus beneficios con el costo de continuar utilizando métodos EUV estándar en determinadas capas.

El trabajo de Intel en Hillsboro forma parte de una preparación de largo alcance. La compañía puede desarrollar capacidades internas mientras determina qué tareas justifican el uso de la nueva herramienta y cuáles pueden seguir realizándose con equipos que ya conoce.

ASML, por su parte, obtiene información sobre el desempeño de su tecnología en un entorno de fabricación de chips para laptops. La colaboración puede ayudar al proveedor y a su cliente a perfeccionar el equipo antes de que la demanda por High NA aumente.

La noticia no implica que Intel haya abandonado la litografía EUV estándar. Ambas tecnologías conviven en el proceso de Panther Lake, con High NA asignada a determinadas capas y EUV convencional manteniendo su papel en otras fases de producción.

Esta combinación refleja una estrategia de transición controlada. Intel busca aprender con una herramienta de próxima generación sin depender completamente de ella, mientras la industria continúa definiendo sus estándares técnicos y económicos.

El resultado de estas pruebas podría influir en decisiones futuras sobre la fabricación de procesadores. Por ahora, el objetivo inmediato consiste en recopilar datos, optimizar la máquina y comprender cómo puede contribuir a fabricar circuitos cada vez más pequeños.

Imagen de Unsplash.

Este artículo fue escrito por un redactor de contenido de IA.

 


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